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*CIK/新浪輕工 NKD2000高純氧化鋁粉研磨分散機 歡迎咨詢(xún)

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簡(jiǎn)要描述:*CIK/新浪輕工 NKD2000高純氧化鋁粉研磨分散機 高純氧化鋁粉研磨分散機,氧化鋁粉高速分散機,,高純氧化鋁漿料分散機,金屬氧化物研磨分散機,化工研磨分散機

產(chǎn)品型號:

所屬分類(lèi):高速剪切分散機

更新時(shí)間:2024-03-05

詳細說(shuō)明:

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【產(chǎn)品介紹】

一、產(chǎn)品名稱(chēng):高純氧化鋁粉研磨分散機,氧化鋁粉高速分散機,高純氧化鋁漿料分散機,金屬氧化物研磨分散機,化工研磨分散機

 

二、高純氧化鋁粉的性質(zhì)及應用

 

氧化鋁是白色晶狀粉末、具有多孔性、高分散性和絕緣性等特點(diǎn)。高純氧化鋁氧粉,又稱(chēng)三氧化二鋁,分子量102,是一種白色無(wú)定形粉狀物,俗稱(chēng)礬土。

 

高純氧化鋁的應用:

 

一般3N高純氧化鋁主要應用于先進(jìn)陶瓷,4N主要應用于熒光粉,5N應用于藍寶石晶體、鋰電池隔膜、高級陶瓷等。

 

:應用于鋰電池隔膜及陶瓷涂層、對純度、粒徑、形貌等有嚴格要求,需要使用4N5N以上及納米尺度的超細高純氧化鋁。

 

中端:應用于LED上游產(chǎn)業(yè)鏈,藍寶石襯底,對純度、雜質(zhì)、產(chǎn)品穩定性的要求較為嚴格,需要使用4N5N以上及納米尺度的超細高純氧化鋁。

 

低端:集成電路基板、消費電子,紫外固化涂料等方面的應用,需要使用4N級別左右的高純超細氧化鋁,整體要求相對較低。

 

              

三、高純氧化鋁粉的應用工藝

 

主要是將高純氧化鋁粉均勻的分散到須改性的基質(zhì)當中,然而傳統的分散設備無(wú)法滿(mǎn)足分散效果的要求,傳統分散設備轉速較低,一般為3000rpm。而采用CIK管線(xiàn)式研磨分散機,轉速高達14000rpm,另外*的結構設計,將膠體磨和分散機一體化,先研磨后分散,分散粒徑更小,粒徑分布更均勻。

 

四、CIK化工研磨分散機的優(yōu)勢

 

1、上海CIK研磨式分散機可以很好的解決這一問(wèn)題,“膠體磨+分散機”的*結構,一級研磨模塊可以將團聚體研磨打開(kāi),第二級分散模塊再瞬間對物料進(jìn)行充分的分散,一步到位,效果好,效率高。

  

2、傳統分散設備轉速一般不足3000rpm,難以分散。而CIK研磨分散機轉速高達14000rpm,剪切速率高,可以充分的將石墨烯分散到涂料當中。  

 

3、CIK研磨分散機采用管線(xiàn)式分體式結構,物料從進(jìn)口進(jìn)入設備工作腔中,進(jìn)行處理,然后再從出口打出,物料順利得的剪切細化分散,產(chǎn)品更均勻穩定。另外可以實(shí)現在線(xiàn)式生產(chǎn),滿(mǎn)足大工業(yè)化生要求。

五、NKD2000系列高純氧化鋁粉研磨分散機選型表

 

研磨分散機

流量*

輸出

線(xiàn)速度

功率

入口/出口連接

類(lèi)型

l/h

rpm

m/s

kW

 

NKD2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

NKD2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

NKD2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

NKD2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

NKD2000/30

20000

1,420

23

55

DN150/DN125

NKD2000/50

60000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調節到zui大允許量的10%。

 

 

 

 

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